Kuparikalvo grafeenille
Esittely
Grafeeni on uusi materiaali, jossa SP²: llä kytketyt hiiliatomit on tiukasti pinottu yhteen kerrokseen kaksiulotteista hunajakennon hila-rakennetta. Erinomaisten optisten, sähköisten ja mekaanisten ominaisuuksien avulla grafeenilla on merkittävä lupaus materiaalitieteen, mikro- ja nano -prosessoinnin, energian, biolääketieteen ja lääkkeiden toimittamisen sovelluksille, ja sitä pidetään tulevaisuuden vallankumouksellisena materiaalina. Kemiallinen höyryn laskeutuminen (CVD) on yksi yleisimmin käytetyistä menetelmistä suuren alueen grafeenin kontrolloidussa tuotannossa. Sen pääperiaatteena on saada grafeeni tallettamalla se metallin pinnalle substraattina ja katalyyttinä ja kuljettamalla tietyn määrän hiililähteen esiastetta ja vetykaasua korkean lämpötilan ympäristössä, joka on vuorovaikutuksessa toistensa kanssa. Civen -metallin tuottama grafeenin kuparikalvo on korkea puhtaus, hyvä stabiilisuus, tasainen kiekko ja litteä pinta, joka on ihanteellinen substraattimateriaali CVD -prosessissa.
Edut
Korkea puhtaus, hyvä vakaus, tasainen kiekko ja litteä pinta.
Tuoteluettelo
RA-kuparikalvo
[HTE] Korkea pidentymisohjelma Ed Copper Folio
*Huomaa: Kaikki yllä olevat tuotteet löytyvät verkkosivustomme muista luokista, ja asiakkaat voivat valita todellisten sovellusvaatimusten mukaisesti.
Jos tarvitset ammattimaisen oppaan, ota yhteyttä meihin.
